11:15 〜 11:30 [10a-N306-9] ヘキサブロモトリフェニレンによるナノメッシュ構造の形成 長友 勇太1、片岡 俊樹1、吉長 旭1、坂上 弘之1、佐藤 仁2、富成 征弘3、田中 秀吉3、〇鈴木 仁1 (1.広島大院、2.広島大放射光、3.情通研機構)