井上應理

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発表者・著者、共著者

2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:30 N305 (口頭)

一般セッション(口頭講演)
| 3 光・フォトニクス
| 3.7 レーザープロセシング

[10p-N305-1~18] 3.7 レーザープロセシング

14:00 〜 14:15

[10p-N305-3] 液中レーザーアブレーションによるSrAl₂O₄:Eu²⁺蛍光体粒子の作製

〇(M2)井上應理¹、中村俊博¹ (1.法政大理工)