15:15 〜 15:30 [10p-N323-9] LPCVD SiN膜耐圧とN2アニール温度 (II) ESR解析とFTIR結果 〇宮川 勇人1、栗田 久嗣2、中村 真貴2、神垣 良昭3 (1.香川大創造工、2.ローム浜松、3.EBL)