13:00 〜 13:15 [10p-S203-1] (ZnO)1-x-(SnO2)x多元系n形酸化物半導体薄膜を用いる透明ReRAMの作製 〇(M1)小林 亮太1、谷口 佑太朗1、宮田 俊弘1 (1.金沢工大)