一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.6 ナノバイオテクノロジー [10a-N207-1~11] 12.6 ナノバイオテクノロジー 2021年9月10日(金) 09:00 〜 12:00 N207 (口頭) 林 智広(東工大)、杉原 加織(東大)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.6 ナノバイオテクノロジー [10p-N207-1~16] 12.6 ナノバイオテクノロジー 2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:00 N207 (口頭) 住友 弘二(兵庫県立大)、淺川 雅(金沢大)、赤堀 玲奈(日立研開)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.7 医用工学・バイオチップ [10a-S402-1~13] 12.7 医用工学・バイオチップ 2021年9月10日(金) 09:00 〜 12:30 S402 (口頭) 高橋 一浩(豊橋技科大)、徳田 崇(東工大)、横式 康史(東工大)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.7 医用工学・バイオチップ [10p-S402-1~18] 12.7 医用工学・バイオチップ 2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:30 S402 (口頭) 宇野 重康(立命館大)、竹原 宏明(東大)、河野 剛士(豊橋技科大)
一般セッション(口頭講演) | 13 半導体 | 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション [10p-N304-1~10] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション 2021年9月10日(金) 13:30 〜 16:15 N304 (口頭) 嵯峨 幸一郎(ソニー)、森 伸也(阪大)
一般セッション(口頭講演) | 13 半導体 | 13.3 絶縁膜技術 [10p-N323-1~12] 13.3 絶縁膜技術 2021年9月10日(金) 13:00 〜 16:15 N323 (口頭) 山本 圭介(九大)、三谷 祐一郎(都市大)
一般セッション(口頭講演) | 13 半導体 | 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術 [10a-N302-1~6] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術 2021年9月10日(金) 10:30 〜 12:00 N302 (口頭) 岡田 竜弥(琉球大)
一般セッション(口頭講演) | 13 半導体 | 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術 [10p-N302-1~15] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術 2021年9月10日(金) 13:30 〜 17:45 N302 (口頭) 葉 文昌(島根大)、佐道 泰造(九大)
一般セッション(口頭講演) | 13 半導体 | 13.8 光物性・発光デバイス [10a-N303-1~11] 13.8 光物性・発光デバイス 2021年9月10日(金) 09:00 〜 11:45 N303 (口頭) 七井 靖(防衛大)、中西 貴之(物材機構)
一般セッション(口頭講演) | 13 半導体 | 13.8 光物性・発光デバイス [10p-N303-1~19] 13.8 光物性・発光デバイス 2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:30 N303 (口頭) 加藤 有行(長岡技科大)、舘林 潤(阪大)