[10a-N204-1~12] CS.10 Code-sharing Session of 6.5 & 7.6

△ [10a-N204-7] Plasma Analysis in a New Fast Atom Beam Source for Surface Activated Bonding

〇Ryo Morisaki¹, Junpei Sakurai¹, Chiemi Oka¹, Takahiro Yamazaki¹, Takayoshi Akao², Tomonori Takahashi², Hiroyuki Tsuji², Noriyasu Ohno¹, Seiichi Hata¹ (1.Nagoya Univ., 2.NGK INSULATORS, LTD.)

Keywords:Surface activated bonding, Fast atom beam, PIC-MCC simulation

先行研究にて製作した表面活性化接合用新形高速原子ビーム源は，ビーム照射効率の向上と長寿命化を達成した．本研究では，ビーム源内部プラズマのシミュレーションによって，新形ビーム源が高効率なビーム照射を達成した要因の解明を目指した．その結果，新形ビーム源は，磁場印加による荷電粒子の誘導により，ビーム照射量の向上と高エネルギビームの生成を達成した可能性を確認した．