2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.2 グラフェン

[10a-N306-1~11] 17.2 グラフェン

2021年9月10日(金) 09:00 〜 12:00 N306 (口頭)

永瀬 雅夫(徳島大)

11:15 〜 11:30

[10a-N306-9] ヘキサブロモトリフェニレンによるナノメッシュ構造の形成

長友 勇太1、片岡 俊樹1、吉長 旭1、坂上 弘之1、佐藤 仁2、富成 征弘3、田中 秀吉3、〇鈴木 仁1 (1.広島大院、2.広島大放射光、3.情通研機構)

キーワード:ボトムアップ、グラフェンナノメッシュ、表面反応

金および銅表面において,ヘキサブロモトリフェニレン分子をウルマン反応によって重合しグラフェンナノメッシュ構造を作製した.また,基板表面の対称性の影響および表面の副生成物についての評価をおこなった.