2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[10p-N203-1~9] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2021年9月10日(金) 13:30 〜 16:00 N203 (口頭)

鳥越 和尚(SUMCO)、須藤 治生(GWJ)

13:45 〜 14:00

[10p-N203-2] Si/SiO2界面における酸素の挙動に関する第一原理解析

永倉 大樹1,2、末岡 浩治3、神山 栄治3 (1.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング、2.岡山県大院情報系工、3.岡山県大情報工)

キーワード:半導体、ゲッタリング、酸素析出物