[10p-N206-1~13] 2.2 Radiation physics fundamentals & applications, radiation generators, new technology

[10p-N206-1] Evaluation of X-ray reflectivity of Co-coated Si optics prepared by atomic layer deposition

〇(D)Aoto Fukushima¹, Daiki Ishi¹, Yuichiro Ezoe¹, Kumi Ishikawa¹, Tomoki Uchino¹, Sae Sakuda¹, Ayata Inagaki¹, Yoko Ueda¹, Hiromi Morishita¹, Luna Sekiguchi¹, Yukine Tsuji¹, Takatoshi Murakawa¹, Masaki Numazawa², Kazuhisa Mitsuda³ (1.TMU, 2.RIKEN, 3.NAOJ)

Keywords:atomic layer deposition, X-ray reflectivity, X-ray astronomy

将来衛星への搭載に向けて、マイクロマシン技術を用いた宇宙用の軽量X線望遠鏡の開発を進めている。薄い Si ウェハに微細穴を形成し、側壁をX線反射鏡として利用する。反射率向上のため、我々は原子層堆積法に着目し、Si 表面への Co 成膜を実施した。反射率は大反射角で大きく向上し、成膜面の表面粗さは 1 nm rms 程度と将来ミッションの要求を満たしている。今後、微細穴側壁への成膜についても検証を進める予定である。