2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[10p-N302-1~15] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2021年9月10日(金) 13:30 〜 17:45 N302 (口頭)

葉 文昌(島根大)、佐道 泰造(九大)

16:45 〜 17:00

[10p-N302-12] 分子動力学法によるアモルファスGeの液相媒介結晶化過程の解析

〇(M1)長岡 駿弥1、石丸 学1 (1.九州工大)

キーワード:爆発的結晶化、アモルファスGe、分子動力学法

薄膜トランジスタはアモルファス半導体へのレーザーやフラッシュランプアニールにより製造される。この際に結晶化が高速で進行する「爆発的結晶化」が生じることが報告されている。本研究では、分子動力学法によりアモルファスGeの結晶化過程を調査した。その結果、ガラス転移点よりも高い温度で保持すると、アモルファス/結晶界面に液体層が形成し、それを介して高速な結晶化が起こることが確認された。