The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[10p-N322-1~16] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

Fri. Sep 10, 2021 1:30 PM - 6:00 PM N322 (Oral)

Kazunori Koga(Kyushu Univ.), Hiroyuki Kousaka(Gifu Univ.), Ryuta Ichiki(Oita University)

3:00 PM - 3:15 PM

[10p-N322-6] Contributions of atomic nitrogen and vibrational excited states of molecular nitrogen to production of NH3 in low-pressure N2-H2 plasma

Shinnosuke Hosoyama1, Koichi Sasaki1 (1.Hokkaido Univ.)

Keywords:vibrational excited states, ammonia, nitrogen

分子の振動状態を励起すると、触媒表面への化学吸着確率が増加することが報告されており、この化学吸着確率の促進は、プラズマの生成によって触媒表面での反応速度が向上する「プラズマ触媒」のメカニズムである可能性がある。今回は、低ガス圧N2-H2プラズマにおけるNH3密度およびN2の転換率に関する実験結果を示し、NH3の生成反応における振動励起状態窒素分子の寄与について議論する。