2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[10p-N322-1~16] 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:00 N322 (口頭)

古閑 一憲(九大)、上坂 裕之(岐阜大)、市来 龍大(大分大学)

15:00 〜 15:15

[10p-N322-6] 低ガス圧N2-H2プラズマにおけるNH3の生成に対する窒素原子および振動励起状態窒素分子の寄与

細山 真ノ介1、佐々木 浩一1 (1.北大工)

キーワード:振動励起状態、アンモニア、窒素

分子の振動状態を励起すると、触媒表面への化学吸着確率が増加することが報告されており、この化学吸着確率の促進は、プラズマの生成によって触媒表面での反応速度が向上する「プラズマ触媒」のメカニズムである可能性がある。今回は、低ガス圧N2-H2プラズマにおけるNH3密度およびN2の転換率に関する実験結果を示し、NH3の生成反応における振動励起状態窒素分子の寄与について議論する。