[10p-N323-1~12] 13.3 絶縁膜技術

[10p-N323-10] 化学溶液を用いたSi基盤の低温酸化の検討

〇高橋 陽輝¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大院工)

キーワード：半導体、Si系半導体