The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

Presentation information

Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

[10p-S202-1~14] 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

Fri. Sep 10, 2021 1:00 PM - 5:00 PM S202 (Oral)

Kazuma Eto(AIST)

1:15 PM - 1:30 PM

[10p-S202-2] 6 inch SiC bulk crystal grown by solution method aided by AI technology

Toru Ujihara1,2,3, Can Zhu1, Yosuke Tsunooka1, Koki Suziki1, Wancheng Yu1, Xinbo Liu2, Yifan Dang2, Tomoaki Furusho1, Kentaro Kutsukake1,3, Shunta Harada1,2, Miho Tagawa1,2, Mai Abe4, Kenya Tanaka4 (1.IMaSS, Nagoya Univ., 2.Nagoya Univ., 3.RIKEN, 4.Hitachi Metals)

Keywords:SiC, Crystal Growth

我々は溶液成長法による高品質SiC結晶成長技術の開発を長年行ってきた。その結果、転位密度が極めて低い高品質SiC結晶を実現してきた1。さらに、最近では6インチの大口径結晶成長にも成功している。本講演では、6インチの結晶成長の実現に至る経緯について報告する。