2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[10p-S202-1~14] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2021年9月10日(金) 13:00 〜 17:00 S202 (口頭)

江藤 数馬(産総研)

14:15 〜 14:30

[10p-S202-5] CVD成長におけるSiC微斜面への水素被覆の理論研究

木村 友哉1、長川 健太2、押山 淳2、白石 賢二2,1 (1.名大院工、2.名大未来研)

キーワード:SiC、CVD成長、第一原理計算