The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

Presentation information

Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

[10p-S202-1~14] 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

Fri. Sep 10, 2021 1:00 PM - 5:00 PM S202 (Oral)

Kazuma Eto(AIST)

2:45 PM - 3:00 PM

[10p-S202-7] Carrier lifetime of a drift layer for suppression of bipolar degradation in 4H-SiC

Toshiki Mii1, Masashi Kato1 (1.Nagoya Inst. of Tech.)

Keywords:SiC, bipolar degradation, carrier lifetime

4H-SiCは次世代パワーデバイス用の半導体材料として注目されているが、pnダイオードへの順方向通電により積層欠陥が拡張し、バイポーラ劣化を引き起こすことが知られている。バイポーラ劣化は基板に到達する正孔濃度が一定量を超えることで生じると推測されており、その抑制にはドリフト層のキャリアライフタイムτbulkを短くすることが求められる。しかしながら、実際に測定されるキャリアライフタイムの値は基板と表面の影響を受けるため、τbulkが十分短いかどうかを確認することは困難であった。そこで本研究では、数値計算によりτbulkが十分短いことを実験的に確認するための指針を検討した。