The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[10p-S203-1~21] 6.3 Oxide electronics

Fri. Sep 10, 2021 1:00 PM - 6:30 PM S203 (Oral)

Akifumi Matsuda(Tokyo Tech), Shoso Shingubara(Kansai Univ.)

5:45 PM - 6:00 PM

[10p-S203-19] Fabrication of aluminum oxide thin films by dip-dry deposition

Baixian Cheng1, Ichimura Masaya1 (1.Nagoya Inst. of Tech.)

Keywords:aluminum oxide, dip-dry deposition

本研究では、溶液に基板を浸漬して少量の溶液をつけてから加熱することで、安易かつ大面積の堆積が可能なディップ蒸発堆積法によるAlOx堆積を行い、その後、厚さと透過率測定をはじめとした薄膜の評価を行った。その結果、AlOx薄膜は均一な厚さを持つ透明な膜である事がわかった。