2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10p-S203-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月10日(金) 13:00 〜 18:30 S203 (口頭)

松田 晃史(東工大)、新宮原 正三(関西大)

14:00 〜 14:15

[10p-S203-5] 抵抗変化デバイスの特性を考慮した確率共鳴シミュレーション

小竹 克弥1、牛久 拓真1、木下 健太郎1 (1.東理大理)

キーワード:確率共鳴、抵抗変化メモリ

確率共鳴とは,入力信号にノイズを重畳することで,入出力の相関係数があるノイズ強度でピークをとる現象である.確率共鳴のピーク位置は閾値に依存するため,素子間 (device-to-device)の閾値ばらつきに注目した研究は存在するが,素子内(cycle-to-cycle)の閾値ばらつきが考慮された例はない.本研究では,単一素子内の閾値ばらつきを考慮した確率共鳴シミュレーションを行い,応答への影響を調査した.