2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10p-S203-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月10日(金) 13:00 〜 18:30 S203 (口頭)

松田 晃史(東工大)、新宮原 正三(関西大)

14:15 〜 14:30

[10p-S203-6] アニール処理によるNiO薄膜の特性変化

〇(M1)伊藤 颯哉1、江畑 裕登1、鈴木 智之1、山田 繁1、伊藤 貴司1 (1.岐阜大工)

キーワード:酸化物透明導電膜、NiO