[10p-S203-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10p-S203-7] 粉末ターゲットを用いる高周波マグネトロンスパッタ法によるCu₂O薄膜の作成

〇(M1)谷口 佑太朗¹、小林 亮太¹、宮田 俊弘¹ (1.金沢工大)

キーワード：薄膜

CuOもしくはCu₂O粉末をターゲットとして採用する高周波マグネトロンスパッタ法を用いてCu₂O薄膜を作製し、その結晶学的、光学的特性等について詳細に検討したので報告する。