[10p-S203-1~21] 6.3 Oxide electronics

[10p-S203-7] Preparation of Cu2O thin film by R.F magnetron sputtering method using power target

〇(M1)Yutaro Taniguchi¹, Ryota kobayashi¹, Toshihiro Miyata¹ (1.KIT)

Keywords:thin film

CuOもしくはCu₂O粉末をターゲットとして採用する高周波マグネトロンスパッタ法を用いてCu₂O薄膜を作製し、その結晶学的、光学的特性等について詳細に検討したので報告する。