[10p-S301-1~2] 8.8 プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演

[10p-S301-1] [プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演] プラズマ励起ラジカルの強制対流による高品質グラフェンの低温合成

〇金 載浩¹、板垣 宏知¹、榊田 創¹ (1.産総研)

キーワード：グラフェン、プラズマCVD、カーボンナノ材料

本発表では、第19回プラズマエレクトロニクス賞の受賞対象となった論文（Nano Letters 19 (2019) 739-746）について紹介する。グラフェンは、エレクトロニクス産業の新素材として大注目を浴びている。しかし、実用化に向けった高品質グラフェン膜の低温合成法が実現できていない状況であった。本研究では、ラジカル強制対流式プラズマCVD手法を独自に開発することにより、基板を加熱せずに400℃以下て高品質な単層グラフェン膜合成に成功した。