[11a-N401-1~5] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[11a-N401-2] Si系材料添加における193nm液浸レジストの表面特性制御

〇唐 晨¹、関口 淳^2,3、安田 雅昭³、平井 義彦³ (1.上海新陽半導体、2.リソテックジャパン、3.阪府大院工)

キーワード：ArF、液浸、レジスト

ArF液浸用レジストは、ArFドライレジストを異なり、レジスト表面と露光機のレンズの間に液浸液が存在する。そのため、PAGの液浸液への溶出や、レジスト表面に液浸液が残ってしまい、ディフェクトとなるウォーターマークなどが問題となる。そこで、ArF液浸レジストにF系添加材を加えることで、プリベーク後にレジスト表面にF偏析層を形成して、PAGのリーチングを防ぎ、また、液浸液との接触角を上げて、水追従性の向上が検討されている。しかし、Fは、ドライエッチング耐性が低いという問題があった。そこで、我々は、Fの代わりにSi系添加材を用いると事で、PAGのリーチングの防止、液浸液との接触角を向上させると共に、ドライエッチング耐性も高めた、新たなArF液浸露光用レジストを開発したので、報告する。