[11p-N321-1~8] 3.7 レーザープロセシング

△ [11p-N321-6] 不純物をドープした4H-SiC基板からレーザーアブレーションにより作製したナノ微粒子の光学的特性の評価

〇池田 光希¹、石原 淳¹、宮島 顕祐¹ (1.東理大院)

キーワード：アブレーション、レーザー加工、PL

本研究では、不純物をドープした4H-SiC基板に液中レーザーアブレーションを用いてナノ微粒子を作製した。結晶が再構成されるとすると、たとえターゲット基板に不純物が多くてもレーザーアブレーションにより作製したナノ微粒子に影響はしないと予想される。