[11p-S201-1~8] Thin film / surface physics research trends and future prospects -The 50th anniversary of Thin film and surface physics division-

[11p-S201-2] Physics of Dielectrics and its Interface Supporting Semiconductor Devices
~ 26 years in Workshop on Electron Device Interface Technology ~

〇Kenji Okada¹ (1.Tower Partners Semiconductor)

Keywords:semiconductor device, interface, dielectrics

電子デバイス界面テクノロジー研究会は、SiO₂膜およびHigh-k絶縁膜の膜質・界面の物理、その電子デバイスへの影響を主たる研究対象とした「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」研究会、「ゲートスタック」研究会を経て本年26 年目を迎えた。現在は強誘電HfO₂膜、Ge channel、パワーデバイス等多岐に亘るテーマについて議論が展開されている。本研究会の現在に至る技術動向について概観する。