2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[12a-N202-1~8] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:15 N202 (口頭)

川添 忠(日亜化学)、西郷 甲矢人(長浜バイオ大)

09:45 〜 10:00

[12a-N202-4] フォトンブリーディングと散逸構造 その2

坂野 斎1 (1.山梨大院)

キーワード:フォトンブリーディング、散逸構造、ドレスト光子

川添・大津らが開発し,間接半導体を高効率の発光デバイスにするフォトンブリーディングプロセスは,発光してほしい光を照射して誘導放出を促しながらキャリア電流を流しアニールし,不純物の構造を発光サイトとして最適化する手法である.この育成過程が非平衡熱力学の散逸構造とみなせる可能性があることを前回発表した.今回はこの系に相応しいエントロピーの表式をドレスト光子(内在電磁場)の自由度として横電流密度を考慮して議論する.