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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[12a-N203-1~10] 6.4 薄膜新材料

2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:30 N203 (口頭)

村岡祐治(岡山大)、室谷裕志(東海大)

09:30 〜 09:45

[12a-N203-3] 異なるガス種でスパッタしたTi及びTiN薄膜の特性

〇鈴木和寿¹、川村みどり¹、木場隆之¹、阿部良夫¹ (1.北見工大工)

キーワード：TiN薄膜、Krガス、プラズマ発光分析