2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[12a-N406-1~10] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2021年9月12日(日) 09:00 〜 12:00 N406 (口頭)

鈴木 秀俊(宮崎大)、原田 幸弘(神戸大)

10:15 〜 10:30

[12a-N406-5] GaAsキャップ層成長速度の異なるInAs量子ドットの時間分解発光特性

和泉 蒼翼1、樋浦 諭志1、高山 純一1、村山 明宏1 (1.北大院情報科学)

キーワード:半導体量子ドット、時間分解フォトルミネッセンス、キャリアダイナミクス

半導体量子ドット(QD)は、三次元方向の強い量子閉じ込め効果によりスピン光デバイスの活性層への応用が期待されている。本研究では、QDを埋め込むキャップ層の成長速度を変えたInAs QD単層試料を作製し、時間分解フォトルミネッセンス測定によりキャリアダイナミクスを評価するとともに、走査型透過電子顕微鏡測定によりQDのサイズ分布と組成を調べた。