2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[12a-S401-1~8] 1.3 新技術・複合新領域

2021年9月12日(日) 09:15 〜 11:30 S401 (口頭)

松谷 晃宏(東工大)

10:00 〜 10:15

[12a-S401-4] 反応性イオンエッチング装置の上部電極ガス放出穴の垂直化の検討

松本 哲之1,2、本間 哲哉1 (1.芝工大、2.キオクシア)

キーワード:大気圧プラズマ溶射、イットリア、上部電極

反応性イオンエッチング(RIE)では、高アスペクト比加工のため、RFパワー増加により、パーツ消耗が激しく交換頻度が増加している。イオンの角度依存性に着目し、上部電極のガス穴側壁を垂直形状にする方法を検討した。プラズマ溶射の入射角度によって、ガス放出穴側壁部の堆積量が異なり、溶射角度が50°のとき、表面およびガス放出穴側壁部に均等に堆積することがわかった。