2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[12p-N101-1~20] 15.4 III-V族窒化物結晶

2021年9月12日(日) 13:00 〜 18:30 N101 (口頭)

小島 一信(東北大)、新田 州吾(名大)、久志本 真希(名大)

14:30 〜 14:45

[12p-N101-6] 230 nm遠紫外第二高調波発生に向けた横型擬似位相整合2層極性反転AlN導波路の作製

〇(M2)梅田 颯志1、本田 啓人1、南部 誠明1、市川 修平1,2、藤原 康文1、正直 花奈子1,3、三宅 秀人3,4、上向井 正裕1、谷川 智之1、片山 竜二1 (1.阪大院工、2.阪大電顕センター、3.三重大院工、4.三重大院地域イノベ)

キーワード:AlN、遠紫外、第二高調波発生

新型コロナウィルス(COVID-19)の流行に伴い、深紫外光を用いたウイルス不活性化・殺菌に注目が集まっている。中でも波長230 nm近傍の遠紫外光は皮膚最表面の角質層で吸収されるため人体に無害である。対してAlNは波長210 nmまで透明で高い光学非線形性を有することから、我々はAlN 2層極性反転積層構造を用いた230 nm帯第二高調波発生(SHG)デバイスの設計を行った。本発表ではスパッタアニール法により成膜した2層極性反転AlN薄膜を用いた波長230 nm深紫外光発生横型QPM SHGデバイスの作製プロセスについて報告する。