The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[12p-N203-1~12] 6.4 Thin films and New materials

Sun. Sep 12, 2021 1:30 PM - 4:45 PM N203 (Oral)

Katsuhisa Tanaka(Kyoto Univ.), Yoshinobu Nakamura(Univ. of Tokyo), Osamu Nakatsuka(Nagoya Univ.)

3:00 PM - 3:15 PM

[12p-N203-7] Protection of epitaxial Pb(Zr, Ti)O3 thin films from transfer process using SrRuO3 thin films

Tomofumi Mizuyama1, Norimitsu Hirosaki2, Hiroaki Nishikawa3 (1.Grad. Sch., Kindai Univ., 2.Taiyo Industrial Co., LTD., 3.Kindai Univ.)

Keywords:Epitaxial Pb(Zr, Ti)O3 thin films, SrRuO3 buffer layer, Transfer process

我々は,多様なペロブスカイト型酸化物を薄膜化させ,これを柔軟で曲げ伸ばし可能なフレキシブルプリント基板(FPC)に転写させることで,フレキシブルなペロブスカイト型酸化物薄膜の作製を目指している.そこで本研究では,転写プロセスにおける犠牲層SAO薄膜の溶解からPZT薄膜を保護する目的で,PZT薄膜とSAO薄膜間にバッファ層を用いて,保護バッファ層の効果を調べた.