[12p-N203-1~12] 6.4 薄膜新材料

[12p-N203-7] SrRuO₃薄膜を用いた転写プロセスによるエピタキシャルPb(Zr, Ti)O₃薄膜の保護

〇水山 智文¹、廣﨑 紀光²、西川 博昭³ (1.近畿大院生物理工、2.太洋工業 研究開発部、3.近畿大生物理工)

キーワード：エピタキシャルPb(Zr, Ti)O3薄膜、SrRuO3バッファ層、転写プロセス

我々は，多様なペロブスカイト型酸化物を薄膜化させ，これを柔軟で曲げ伸ばし可能なフレキシブルプリント基板(FPC)に転写させることで，フレキシブルなペロブスカイト型酸化物薄膜の作製を目指している．そこで本研究では，転写プロセスにおける犠牲層SAO薄膜の溶解からPZT薄膜を保護する目的で，PZT薄膜とSAO薄膜間にバッファ層を用いて，保護バッファ層の効果を調べた．