The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

Presentation information

Oral presentation

21 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices" » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[12p-N206-1~19] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Sun. Sep 12, 2021 1:00 PM - 6:15 PM N206 (Oral)

Mutsumi Sugiyama(Tokyo Univ. of Sci.), Katayama Tsukasa(Hokkaido Univ), Riena Jinno(Univ of Tokyo)

1:45 PM - 2:00 PM

[12p-N206-4] A ultraviolet-transparent conductor: rutile Ta-doped Sn1-xGexO2 thin films

〇(M2)Yo Nagashima1, Yasushi Hirose1, Masato Tsuchii1, Michitaka Fukumoto1, Tetsuya Hasegawa1 (1.Tokyo Univ.)

Keywords:ultraviolet-transparent conductor, tin oxide, germanium oxide

我々は最近、代表的な透明導電体の母材料であるSnO2にGeO2を固溶すると光学ギャップが増大し、酸素空孔やTaなどのドナー不純物の導入により導電性が発現することを報告した。今回は、TaドープSn1-xGexO2エピタキシャル薄膜(Ta:SGO)の電気輸送特性を詳細に調べ、深紫外光まで利用可能な透明導電体として有望なことを見出したので報告する。