[12p-N323-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[12p-N323-7] Study of Minimal Spin-on Dopant Process using Minimal SOD Coater

〇Shuhei Nakamichi¹, Masashi Kase², Kazushige Sato¹, Hiroyuki Tanaka², Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.MinimalFab, 2.AIST)

Keywords:minimalFab, SOD Coat, Spin-coater

ミニマルファブでは、不純物拡散に液体ドーパントによる熱拡散法を採用している。SODコーターでのウェハのエッジビートのリンス処理、裏面の汚れの除去などの課題に対して、実験を行い良い特性が得られた。また、塗布膜の平坦度を良くするための試作や熱拡散後に発生する不純物低減の対策なども実施している。