The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[12p-N323-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Sun. Sep 12, 2021 1:00 PM - 4:15 PM N323 (Oral)

Hitoshi Habuka(Yokohama Natl. Univ.), Tetsuya Goto(Tohoku Univ.)

3:00 PM - 3:15 PM

[12p-N323-8] Development of Minimal Tool for Device Electrical Measurement

Fumito Imura1, Yoshihide Murashima2, Masahiro Matsuda2, Tadaaki Tsuchiya2, Kaoru Zenyouji3, Takashi Ohe3, Kouji Kosaka3, Shun-ichirou Shimbori4, Toru Hayakawa1, Sommawan Khumpuang1,5, Shiro Hara1,5 (1.AIST, 2.Logic Research, 3.TCK, 4.Sanyu, 5.MINIMAL)

Keywords:Minimal Fab, Electrical Measurement

ウェハステージ、プローブ針駆動用マニピュレータ、微小電流測定器、カメラなどをミニマル装置内に搭載し、ハーフインチウェハ対応デバイス電気計測システムのミニマル装置を開発した。電極パッド表面の酸化抑制のために窒素雰囲気下で、CADで指定した電極パッドに自動プロービングし電気計測できる。今回、ウェハ全面に形成したpMOSFETのIV測定を行い、プロービング安定性、測定時間などを評価したので報告する。