2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[12p-N402-1~10] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2021年9月12日(日) 13:30 〜 16:15 N402 (口頭)

舩木 修平(島根大)、飯田 和昌(名大)

14:30 〜 14:45

[12p-N402-5] Ba2YbNbO6ナノロッドの導入によるYBCO薄膜の臨界電流密度向上

〇(M2)吉田 悠雅1、堀出 朋哉1、喜多 隆介2、石丸 学1、松本 要1 (1.九工大、2.静岡大)

キーワード:YBCO、臨界電流密度、ナノロッド

超伝導薄膜YBCOに、ピンニングセンターとしてBa2YbNbO6ナノロッドを導入した。磁場中のJcはナノロッドによって増加した。結果に基づいて、ダブルペロブスカイトナノロッドを使用したピンニング特性の制御について説明する。