The 82nd JSAP Autumn Meeting 2021

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.3 III-V-group epitaxial crystals, Fundamentals of epitaxy

[12p-N406-1~12] 15.3 III-V-group epitaxial crystals, Fundamentals of epitaxy

Sun. Sep 12, 2021 1:00 PM - 4:15 PM N406 (Oral)

Takuo Sasaki(QST), Shigeo Asahi(Kobe Univ.)

1:15 PM - 1:30 PM

[12p-N406-2] Theoretical Investigation on Phosphorus-Vacancy-Mediated Annihilation of Nitrogen Related Point Defects in GaPN Alloy(2)

Shun One1, Keisuke Yamane1, Akihiro Wakahara1 (1.Toyohashi Tech.)

Keywords:III-V-N alloys, point defect, first principles

III-V-N混晶は窒素起因点欠陥がデバイスの特性悪化を引き起こすことが課題とされている。我々は第一原理計算によって、特性悪化を招く窒素起因点欠陥の最近接にリン空孔が存在する場合、リン空孔を介して窒素起因点欠陥の消滅が可能であることを報告してきた。本研究では、リン空孔が最近接にない場合に関して解析を行った。結論として、最近接ではなくてもリン空孔を介した窒素起因点欠陥の効率的な消滅を確認できた。