2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[13a-N302-1~10] 12.1 作製・構造制御

2021年9月13日(月) 09:30 〜 12:15 N302 (口頭)

松原 亮介(静大)、廣芝 伸哉(大阪工大)

09:45 〜 10:00

[13a-N302-2] 静電スプレー堆積法を用いたバルクヘテロ型光電変換層の作製における成膜条件の影響

西田 翔1、伊橋 泰誠1、北河 大樹1、遠藤 大貴1、小野島 紀夫1 (1.山梨大工)

キーワード:有機太陽電池、バルクヘテロ接合

我々は静電スプレー堆積法を用いてP3HT:PCBMバルクヘテロ活性層を成膜し,順型有機太陽電池の作製を行っている.以前スピンコート法と静電スプレー堆積法でそれぞれデバイスを作製し,その特性を比較した.その結果スピンコート法のデバイスの方が発電効率は高いことが確認された.その考察として溶液散布時の活性層の成膜条件が影響していると考えた.従って,今回静電スプレー堆積法の成膜条件によるデバイス特性への影響を評価した.