2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/配線/集積化技術

[13a-N304-1~11] 13.5 デバイス/配線/集積化技術

2021年9月13日(月) 09:00 〜 12:00 N304 (口頭)

小野 行徳(静大)

11:45 〜 12:00

[13a-N304-11] 4端子シリコン・エサキダイオードの作製と低温特性評価

〇(M1)金原 涼伽1、加藤 拓也1、堀 匡寛1,2、小野 行徳1,2 (1.静大院工、2.静大電研)

キーワード:シリコン、エサキダイオード、フォノン