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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[13p-N203-1~10] 6.4 薄膜新材料

2021年9月13日(月) 13:30 〜 16:00 N203 (口頭)

土屋哲男(産総研)、西川博昭(近畿大)

15:15 〜 15:30

△ [13p-N203-8] 複合成膜により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜の光散乱特性(4)

〇(M2)若宮大生¹、松本繫治²、室谷裕志¹ (1.東海大院工、2.（株）シンクロン)

キーワード：光学薄膜、光散乱