[13p-N203-1~10] 6.4 Thin films and New materials

△ [13p-N203-9] Multilayer with Low Refractive Index SiO₂ Optical Thin Films Deposited by Sputtering and Electron Beam Evaporation (2)

〇(D)Naoya Tajima¹, Shigeharu Matsumoto², Hiroshi Murotani¹ (1.Tokai Univ., 2.SHINCRON CO. LTD.)

Keywords:optical thin film, deposition technology, multilayer

本研究室では，電子ビーム蒸着法とスパッタリング法を同一真空容器内で稼働可能な複合成膜手法を開発し，SiO₂光学薄膜の低屈折率化に成功している．この低密度膜はスパッタリングの積層に対しても，低屈折率を維持できる．本研究では低屈折率層に複合成膜手法，高屈折率層にスパッタリング法を用いて基板と同一材料で構成される光学多層膜(Monomaterial multi-coating)の作製を行った．