2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[13p-S201-1~14] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2021年9月13日(月) 13:00 〜 16:45 S201 (口頭)

尾沼 猛儀(工学院大)、後藤 健(農工大)

16:15 〜 16:30

[13p-S201-13] 貴金属ルツボフリーβ-Ga2O3結晶育成法による成長中の酸素濃度の影響

高橋 勲1、富田 健稔1、菅原 孝昌2、庄子 育宏1、Kochurikhin Vladimir1、鎌田 圭1,2、柿本 浩一3、吉川 彰1,2 (1.㈱C&A、2.東北大、3.九大)

キーワード:酸化ガリウム、スカルメルト法、ミストCVD

β-Ga2O3の新しい結晶育成手法として、貴金属ルツボを用いないスカルメルト+Cz法を開発している。本手法では、ルツボの酸化による雰囲気の制限がないため、100%の酸素雰囲気で結晶を成長でき、点欠陥の少ない結晶が期待される。講演では、FZ法の結晶との比較も含めルツボフリーで成長させた結晶の物性評価の結果を報告する。