[22a-P08-1~11] 8 Plasma Electronics(Poster)

[22a-P08-11] Numerical analysis of the dependence of various external parameters on the characteristics of low-pressure C₂H₂ plasma for DLC deposition

〇Shun Sasaki¹, Koichi Ishii¹, Akinori Oda¹ (1.Chiba Inst.)

Keywords:simulation, plasma-enhanced chemical vapor deposition, acetylene

近年， ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜には, 低圧プラズマ支援CVD法が多く用いられている。本手法において, 成膜用ガスにC₂H₂を用いた場合, 成膜速度および膜硬度の改善が報告されているが, この改善理由も含めてC₂H₂プラズマの特性には未解明な部分が多い。そこで本研究では，低圧高周波C₂H₂プラズマのシミュレーションを行い，外部パラメータ(ガス圧力, ガス流量など)がプラズマ特性に及ぼす影響について解析を行った。