[22p-P01-1~12] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[22p-P01-1] 室温原子層堆積法を用いた酸化鉄薄膜の試作と評価

〇永田 一成¹、吉田 一樹^1,2、齋藤 健太郎^1,2、三浦 正範³、鹿又 健作³、廣瀬 文彦¹ (1.山形大院理工、2.学振特別研究員、3.山形大ROEL)

キーワード：酸化鉄、室温成膜、原子層堆積

酸化鉄(Ⅲ)(Fe₂O₃)は磁気特性をもつため、磁気デバイスへ応用されてきた。我々は酸化ガスをプラズマ励起加湿アルゴン、原料ガスをbis(N-N’ diisopropyl propion amidinate)iron ((DIPPA)₂Fe)として原子層堆積法(Atomic layer deposition: ALD)によるFe₂O₃の室温堆積に取り組んだ。これまでに報告されている(DIPPA)₂FeのALDでは130 ℃が最低温であったが、本研究では室温(22 ℃)での成膜を達成した。Fe₂O₃薄膜の膜組成分析にはX線光電子分光法(XPS)を用い、堆積した膜がFe(Ⅲ)状態の酸化鉄であることを確認した。