[22p-P01-1~12] 8 Plasma Electronics(Poster)

[22p-P01-11] Preparation of the gradient element functional thin films by sputtering deposition method using powder mixture target I

〇Hiroharu Kawasaki¹, Sumoto Kouki¹, Rinka Oshibuchi¹, Tamiko Ohshima¹, Yoshihito Yagyu¹, Takeshi Ihara¹, Yusuke Hibino¹ (1.Nai'l Ins. Tech. Sasebo Col.)

Keywords:Powder target, Gradient element functional thin film

数種類の粉体ターゲットをもちいたプラズマプロセスで、基板と薄膜の界面ではより密着性がよく、高圧水素に密着する薄膜側では水素脆化防止効果が高いような傾斜機能性薄膜の作製を試みた。結果から、ターゲット粉体中のNiO/SUSの組成比を制御することで、薄膜中のNi/SUS組成比は制御できることが示唆された。