[22p-P04-1~16] 12.1 作製・構造制御

[22p-P04-5] 含フッ素ポリマーを用いた物理蒸着法による低屈折率反射防止薄膜の作製

〇安井 爽眞¹、大石 不二夫²、田中 邦明¹、臼井 博明¹ (1.農工大院工、2.神奈川大理)

キーワード：薄膜、真空、光学

真空蒸着法及び電子アシスト蒸着法を用いてTeflon^TMAFの薄膜を形成した。ガラスの片面に薄膜を形成することで反射率が可視領域において最大8.2%から4.8%へと低減し、膜の屈折率は約1.3と低かった。また電子線照射によって光学的性質は変化しなかった。鉛筆硬度試験によって真空蒸着膜は10Bで破損したことに対し電子アシスト蒸着膜は4Bまで耐え、機械的強度が向上した。