10:45 〜 11:00 △ [19a-Z16-4] 異なるSiO2下地層上に形成したナノドットアレイの電気特性比較 〇(B)谷澤 涼太1、天野 郁馬1、瘧師 貴幸1、福地 厚1、有田 正志1、高橋 庸夫1 (1.北海道大学)