13:45 〜 14:00 [19p-Z07-2] 塗布膜を用いたレーザードーピング法によるシリコン極浅高濃度ドーピング層の形成 〇倉重 貴行1、水谷 彬1,2、中村 大輔1、池上 浩1,2、片山 慶太1 (1.九大シス情、2.九大ギガフォトン共同部門)