13:00 〜 13:50 [18p-P03-1] 近赤外低温カソードルミネッセンスを用いたSOI基板の内部欠陥評価 〇(B)生田 俊輔1、藤本 正直1、浅野 卓2、野田 進2、高橋 和1 (1.大阪府大院工、2.京大院工)