一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
09:00 〜 09:15
〇林 秀一郎1、茂呂澤 郁也1、寺川 光洋1,2 (1.慶大院理工、2.慶大理工)
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09:15 〜 09:30
〇古川 雄規1,2、井上 峻介1,2、橋田 昌樹1 (1.京大化研、2.京大院理)
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09:30 〜 09:45
〇(M1)三村 一暉1、高橋 孝2、山口 誠3、小林 洋平2、富田 卓朗1 (1.徳島大院創成、2.東京大物性研、3.秋田大理工)
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09:45 〜 10:00
〇山本 健1、高橋 孝2、内海 慶春3、柴田 明宣4、山口 誠5、小林 洋平2、富田 卓朗1 (1.徳島大院創成、2.東大物性研、3.日本アイ・ティ・エフ(株)、4.日新電機(株)、5.秋田大理工)
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10:00 〜 10:15
〇(M1)有村 恒良1、井濱 雅弘2、竹中 啓輔3、吉田 徳雄3、森本 健斗3、佐藤 雄二3、吉田 実1、塚本 雅裕3 (1.近大院総合理工、2.阪大工、3.阪大接合研)
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10:30 〜 10:45
〇遠藤 翼1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
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10:45 〜 11:00
〇池田 光希1、石原 淳1、宮島 顕祐1 (1.東理大応)
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11:00 〜 11:15
〇西端 樹1、吉田 雅幸1、伊藤 佑介2、杉田 直彦2、廣瀬 明夫1、佐野 智一1 (1.阪大院工、2.東大院工)
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11:15 〜 11:30
〇(M2)宮原 勇兵1、髙橋 涼平1、花田 修賢1 (1.弘前大理工)
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11:30 〜 11:45
〇(D)吉崎 れいな1、吉武 俊哉1、伊藤 佑介1、魏 超然1、柴田 章広2、長澤 郁夫2、長藤 圭介1、杉田 直彦1 (1.東大院工、2.AGC株式会社)
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11:45 〜 12:00
〇小坂 悠起1、平川 裕人1、森塚 翼1、椿本 孝治1、白神 宏之1、宮永 憲明1、中田 芳樹1 (1.大阪大学)
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